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凈化工程溫濕度控制范圍-鴻潔源021-69116303詳情

發(fā)布時(shí)間:2023-03-31人氣:327

具體凈化工藝對(duì)溫度的要求,由于加工精度越來(lái)越精細(xì),對(duì)溫度波動(dòng)范圍的要求越來(lái)越小;要求的濕度值一般較低,因?yàn)槌龊购髸?huì)污染產(chǎn)品,尤其是怕鈉的半導(dǎo)體車間,不宜超過(guò)25度。

濕度過(guò)大會(huì)導(dǎo)致更多的問(wèn)題。當(dāng)相對(duì)濕度超過(guò)55%時(shí),冷卻水管壁上會(huì)發(fā)生凝結(jié)。如果發(fā)生在精密器件或電路中,會(huì)造成各種事故。相對(duì)濕度50%時(shí)容易生銹。此外,當(dāng)濕度過(guò)高時(shí),附著在硅片表面的灰塵會(huì)被空氣中的水分子化學(xué)吸附在表面,很難去除。相對(duì)濕度越高,越難去除粘附物。然而,當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí),由于靜電力,顆粒容易吸附在表面上,并且大量的半導(dǎo)體器件容易被擊穿。硅晶片生產(chǎn)的最佳溫度范圍是35-45%。

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